普發氦質譜檢漏儀

渦輪分子泵應用于  OLED 鍍膜機
上海伯東某專業從事 OLED 設備制造商, 經過伯東推薦該設備真空系統配置 Pfeiffer 分子泵  HiPace 700 , 雙級旋片泵 DUO 35 和美國 HVA 插板閥, 成功替換此設備原先使用的日本低溫泵. 此款 OLED 設備適用于有機半導體照明客戶.

OLED 設備基本技術要求如下:
1.  腔體體積: 約 150 L 左右
2.  極限真空度: 1 x 10-7 mbar
3.  30 分鐘 – 1 小時內達到 5 x 10-5 mbar
4.  Gas: Ar, O2

真空系統配置

	渦輪分子泵 HiPace 700 進氣口: DN 160 CF-F 氮氣抽速: 685 l/s 氮氣壓縮比: > 1X1011 極限真空: 5X10-10 mbar 半導體 Semi S2 及 IP 54 防護等級
	雙級旋片泵 DUO 35 進氣口: DN 40 ISO-KF 氮氣抽速: 32 m3/h 極限真空: 3 X 10-3
	全量程真空計 PKR 251 進氣口:KF 25 測量范圍: 5E-9至 1000 精度: ±30%
	HVA 氣動插板閥 進氣口: DN 160 CF-F 極限真空: 1x10-10 mbar 供電: 24V DC

此類  OLED 鍍膜機, 用加熱使材料蒸發的方法, 在襯底上沉積各種化合物, 混合物單層或多層膜. 主要用于有機半導體材料的物理化學性能研究實驗, 上海伯東 Pfeiffer HiPace 系列分子泵搭配 DuoLine 雙級旋片泵是其理想的選擇! 

鑒于客戶信息保密, 若您需要進一步的了解渦輪分子泵, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
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